CIF勻膠機

簡要描述：CIF勻膠機轉速穩定、啟動迅速，旋涂均勻，操作簡單，結構緊湊實用，為實驗室提供了理想的解決方案。廣泛應用于微電子、半導體、新能源、化工材料、生物材料、光學，硅片、載玻片，晶片，基片，ITO 導電玻璃等工藝制版表面涂覆等。

產品型號：SC1
廠商性質：生產廠家
更新時間：2026-03-23
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CIF材料表面處理儀器

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CIF勻膠機

CIF勻膠機轉速穩定、啟動迅速，旋涂均勻，操作簡單，結構緊湊實用，為實驗室提供了理想的解決方案。廣泛應用于微電子、半導體、新能源、化工材料、生物材料、光學，硅片、載玻片，晶片，基片，ITO 導電玻璃等工藝制版表面涂覆等。

勻膠機產品特點

u 采用閉環控制伺服電機，數字式增速信號反饋，速勻準確，壽命長，保證勻膠均勻。

u 5寸全彩觸摸屏，智能程序化可編程操控顯示，標配10個勻膠梯度階段（速度和時間梯度設置），可選配10個可編程程序，每個程序下可設置10個勻膠梯度階段，多100個階段。

u 內置水平校準裝置，大限度的保證旋涂均勻，可對大小不同規格的基片進行旋涂。

u 多重安全保護

電磁安全開關，蓋子打開卡盤停止，保證安全；

蓋子自鎖功能，防止飛片蓋傷人；

雙重安全上蓋，聚四氟嵌鑲鋼化玻璃，避免單一玻璃或者亞克力上蓋飛片傷人，大限度保證實驗人員安全。

u 一機兩用，根據不同樣品可選真空吸盤和非真空卡盤兩種旋涂模式。

u 不銹鋼噴塑涂層旋涂殼體，PTFE旋涂腔體，聚丙烯（NPP-H）旋涂托盤，PTFE嵌鑲鋼化玻璃上蓋，耐酸堿防腐蝕，保證儀器在苛刻條件下仍能正常運行。

u 適用硅片、玻璃、石英、金屬、GaAs，GaN，InP 等多種材料。

勻膠機使用注意事項：

（1）在旋轉涂膠中，轉速是最重要的因素之一，通常決定了最終的膠膜厚度。較小的速度變化就能導致膠膜厚度較大的變化。旋轉速度過高或過低都會使基片涂膠失敗。因此提供勻膠轉速用的電機控制精度要求非常高。

（2）加速度對涂膠的均勻性有著重要的影響。在涂膠環節的一部分，膠液開始變干，準確地控制加速度十分重要，膠液中50%的溶劑在加速過程中汽化蒸發。旋轉過程提供了一個離心力（向外）給膠液，加速度提供給膠液扭曲力，此力使膠液均勻通過和覆蓋基本表面。最終形成的膠膜均勻性與適當的加速度密切相關。

（3）涂膠工藝受到腔體環境（排風、氣流等）的影響。在涂膠過程中膠液的揮發烘干速度取決于液體本身的自然屬性，也受到涂膠過程中晶圓片周圍空氣情況的影響。涂膠過程中特別重要的一點是涂膠腔體內氣體的流動和與之相關的亂流要減到最小。通過腔體的排風系統可以減少不希望的亂流，這樣可以使液體凝固速度減緩，同時使對外界溫濕度的敏感性減少。

（4）膠液的準確供應對提高成品率及降低成本有很重要的意義。膠液不足造成無法覆蓋全片，太多則對膠膜質量有影響且造成浪費。

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